Huawei y SMIC acaban de demostrar que las sanciones estadounidenses no son tan efectivas como Washington esperaba.
El nuevo procesador Kirin 9030 que impulsa el Mate 80 Pro Max representa la fabricación de semiconductores domésticos más avanzada de China hasta la fecha, logrando densidades comparables a chips de 5 nanómetros sin usar tecnología ultravioleta extrema.
Un chip que rompe esquemas
El procesador Kirin 9030 fue producido utilizando el nodo de proceso N+3 evolucionado de SMIC.
Según el análisis de Bloomberg, este chip alcanza aproximadamente 125 millones de transistores por milímetro cuadrado. Es el primer chip comercial para teléfonos inteligentes de SMIC en este nodo avanzado.
Lo interesante viene aquí: SMIC logró este avance sin acceso a equipos de litografía ultravioleta extrema (EUV), los cuales están restringidos debido a las sanciones estadounidenses.
En su lugar, utilizaron máquinas de litografía ultravioleta profunda (DUV) con sofisticadas técnicas de multipatrón. Básicamente, imprimen y graban las características de los circuitos múltiples veces en cada oblea.
Pero no todo es color de rosa, el proceso es más costoso y potencialmente tiene tasas de producción más bajas que la fabricación basada en EUV. Los analistas señalan que el N+3 no alcanza realmente un proceso de fabricación genuino de 5nm; en cambio, ocupa un espacio entre 7nm y 5nm.
Trump cambia las reglas del juego
El 8 de diciembre el presidente Donald Trump anunció que Estados Unidos permitiría a Nvidia exportar sus chips de inteligencia artificial H200 a China. Este movimiento marca un cambio significativo en la política estadounidense hacia China.
La decisión siguió a evaluaciones de la Casa Blanca que determinaron algo revelador: los sistemas de inteligencia artificial de Huawei ya ofrecen un rendimiento comparable a algunas plataformas de Nvidia.
Funcionarios de la administración concluyeron que el sistema CloudMatrix 384 de Huawei, que utiliza 384 chips Ascend 910C, tuvo un rendimiento comparable a la plataforma GB200 NVL72 de Nvidia construida sobre GPU Blackwell.
La autorización del H200 viene con una particularidad: una participación de ingresos del 25% para el gobierno estadounidense. Los últimos chips Blackwell y Rubin de Nvidia permanecerán prohibidos para China.
La estrategia de China a largo plazo
Más allá de los números de rendimiento, este desarrollo representa un momento crítico para los esfuerzos de independencia semiconductora de China.
SMIC demuestra que puede mejorar la densidad sin emplear litografía ultravioleta extrema (EUV), aunque a costos crecientes y con márgenes de rendimiento decrecientes.
Los avances de SMIC dependerán cada vez más de la disciplina de diseño, bibliotecas de alta densidad innovadoras y velocidades de reloj conservadoras. Parece que la fundición china puede lograr solo cierto progreso a nivel de front-end sin las herramientas EUV más avanzadas.
Esto plantea una pregunta fundamental: ¿puede Huawei realmente ponerse al día en rendimiento puro, o su estrategia se centrará en la autosuficiencia, la seguridad y la integración del ecosistema en lugar del liderazgo en pruebas de rendimiento?
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